El escáner galvo de enfoque post para escaneo 3D puede utilizarse ampliamente en campos de procesamiento de alta gama, como marcado láser de precisión, relieve láser, grabado profundo láser, corte láser, soldadura láser, etc., en superficies multinivel, superficies inclinadas, superficies cilíndricas, superficies esféricas y superficies con morfología 3D compleja.
Ventajas del producto
● Integración
Altamente integrado con escáner galvo de dos dimensiones de gama alta, unidad de enfoque dinámico de alta velocidad, grupo de lentes ópticas, espejo de campo F-theta con enfoque trasero, etc., cuenta con una estructura compacta y estable, trayectoria óptica precisa, buen sellado, apariencia exquisita y fácil instalación.
● Alta Estabilidad
Al adoptar una estructura sellada con blindaje y un circuito de protección contra interferencias de múltiples niveles, posee una gran capacidad de inmunidad frente a interferencias.
● Alta precisión
Mediante el uso de un algoritmo PID avanzado de bucle cerrado, resolución de control de 16 bits, alta precisión de control y efecto de mecanizado fino.
● Alta linealidad
Al emplear una tecnología única de compensación de linealidad, presenta buena linealidad en todo el rango de marcado de gran formato.
● Baja decoloración por temperatura
Al utilizar tecnología avanzada de sensores fotoeléctricos de alta precisión y tecnología de compensación automática de deriva térmica, presenta mínima deriva térmica del cero, deriva térmica de ganancia y deriva térmica durante largos periodos de funcionamiento.
Parámetros del Producto | ||
Área de trabajo |
150x150x80 / 200x200x90 / 300x300x100 mm² |
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Duración focal |
160 / 220 / 330 mm |
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Diámetro del punto focal (1/e²) |
0,0092 / 0,0145 / 0,0193 mm |
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Apertura de entrada |
12mm |
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Diámetro del punto de incidencia |
6–7 mm |
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Longitud de onda del láser |
355 nm / 1064 nm |
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Ángulo de exploración |
±0,35 rad |
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Tiempo de error de seguimiento |
0.22ms |
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Velocidad máxima de posicionamiento |
62,5 rad/s |
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Repetibilidad (RMS) |
4 µrad |
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Deriva de ganancia |
60 ppm/K |
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Deriva cero |
30urad/K |
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Deriva a largo plazo durante 8 horas |
<0,1 mrad |
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Fuente de alimentación |
±15 VCC / 10 A |
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Protocolo de señal |
XY2-100 |
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Dimensión |
200 × 100 × 100 mm |
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Peso |
4,3 kg |
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Temperatura de funcionamiento |
25 °C ± 10 °C |
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Temperatura de almacenamiento |
–10 °C ~ 60 °C |
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Humedad de almacenamiento |
≤ 75 % sin condensación |
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6º Piso, Bloque B, Edificio de Tecnología Wanhe, N.º 7 Carretera Huitong, Distrito de Guangming, Shenzhen, Provincia de Guangdong
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