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Solução de limpeza para plataforma galvo

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Kit galvo para plataforma de limpeza ultra-rápida ZB2DIHS30D1064

Kit galvo para plataforma de limpeza ultra-rápida ZB2DIHS30D1064

Este kit foi projetado para cenários de limpeza a laser de ultra-alta velocidade e alta potência, especialmente para áreas como a indústria de texturização de baterias de nova energia, que exigem eficiência de limpeza extremamente elevada.

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Vantagens do Produto

● Ultra-alta velocidade

Equipado com motores refrigerados a água de alta velocidade e alta potência e drivers de ultra-alta velocidade, com velocidade de limpeza rápida e alta eficiência.

● Alta potência

Utiliza componentes ópticos de lentes de alta potência especialmente personalizados, combinados com estrutura eficiente de refrigeração a água e proteção térmica multinível, podendo suportar com estabilidade até 8000W de potência a laser contínua, lidando facilmente com diversas sujeiras persistentes.

● alta eficiência

Equipado com motores refrigerados a água de alta velocidade e alta potência, drivers de alta velocidade e espelhos de campo com refrigeração eficiente a água, com velocidade de limpeza rápida e alta eficiência, garantindo ao mesmo tempo a estabilidade da operação do sistema.

● Alta Estabilidade

Utilizando design multinível de anti-interferência e algoritmo de controle em malha fechada multinível para resistir efetivamente à interferência eletromagnética e vibração mecânica; o corpo atende aos padrões de proteção contra poeira IP6 para garantir que o galvo possa operar de forma estável por longos períodos em ambientes adversos.

● Alta qualidade

Todos os galvos devem passar por um teste de envelhecimento ultra-longo de 180 horas antes de saírem da fábrica, simulando diversos ambientes extremos para garantir a estabilidade e confiabilidade do produto.

Parâmetros do Produto

Saída

D35 / QBH

Abertura de entrada

30 mm

Ângulo de escaneamento

±0,35 rad

Nao linearidade

<0,5 mrad

Tempo de erro de rastreamento

0,55 ms

Repetibilidade (RMS)

<3 urad

Deriva de ganho

<50ppm/K

Drift zero

<30 urad/K

Deriva de longo prazo durante 8 horas (após 30 minutos de aquecimento)

<0,15 mrad

Velocidade angular

91 rad/s

Comprimento de Onda do Laser

1064 nm

Fonte de alimentação

±24 V/10 A

Temperatura de operação

25±10()

Protocolo de sinal

XY2-100

 

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