Die pos wat op 3D-skaan galwoskandeer fokus, kan wyd gebruik word in hoë-end verwerkingsvelde soos laserpresiese merking, laserreliëf, laserdiepgraveer, lasersny, laserlas, ens. vir multi-vlak oppervlaktes, skuins vlakke, silindriese oppervlaktes, sferiese oppervlaktes en komplekse 3D morfologie-oppervlaktes.
Produkvoordele
● Integrering
Hoogs geïntegreerd met hoë-end tweedimensionele skandering galvo-skandeerder, hoë-spoed dinamiese fokusseenheid, optiese lensgroep, agterste fokus F-theta veldspieël, ens., het dit 'n kompakte en stabiele struktuur, presiese optiese pad, goeie versegeling, bekoorlike voorkoms en gerieflike installasie.
● Hoë Stabiliteit
Deur gebruik te maak van 'n verseëlde afskermpstruktuur en multi-vlak anti-ontsteking beskermingskring, het dit 'n sterk weerstand teen ontstekingsvermoë.
● Hoë presisie
Deur gebruik te maak van gevorderde geslote-lus PID-algoritme, 16-bis beheerresolusie, hoë beheernaukeurigheid en fyn bewerkingseffek.
● Hoë lineêre eienskappe
Deur gebruik te maak van unieke lineariteitskompensasietegnologie, het dit goeie lineariteit oor die hele grootformaat merkreeks.
● Lae-temperatuur versaging
Deur gebruik te maak van hoë-presisie fotovoltaïese sensortegnologie en gevorderde temperatuurdrift outomatiese kompensasietegnologie, het dit minimale nul temperatuurdrift, gewin temperatuurdrift en langtermyn werktemperatuurdrift.
Produkparameters | |
Invalkol |
7 mm |
Oopheid |
14 mm |
Tipiese skandeerhoek |
±0.35 rad |
Nie-lineariteit |
<0.5 mrad |
Volgfout |
0,23 ms |
1 % van volle skaal [ms] |
0,45ms |
Herhaalbaarheid (RMS) |
<3 urad |
Versterkingsdrif |
<100 ppm/K |
Nulverloop |
<50 urad/K |
Langtermyn-drif oor &ure (Na 30 min opwarmtyd) |
<0,1 mrad |
Merkingsspoed |
<5000mm/s |
Posisiesnelheid |
<12000 mm/s |
Kragvereistes |
±15 VDC |
Invoertekens |
Maks. 10 A |
Digitale |
XY2-100 |
Analoog |
±5V |
Bedryfstemperatuur |
25±10℃ |
Afmetings LxBxH (mm) |
230x116x108 |
|
|
6de Vloer, Blok B, Wanhe Tegnologiegebou, No. 7 Huitong Straat, Guangming Distrik, Shenzhen, Guangdong Provinsie
Auteursreg © 2025 Shenzhen Zbtk Tegnologie Maatskappy, Ltd. Privaatheidsbeleid
EN
