レーザーマーキング、レーザー溶接、レーザー切断、3Dプリンティング、レーザークリーニングなどの産業分野で広く使用されており、主に中～ハイエンド向けのアプリケーションを対象としています。外国製の同等レベル製品と置き換えることが可能で、精度、速度、直線性、繰り返し位置決め精度、長期的な温度ドリフト特性、耐干渉性能などが高い要求がある用途に適しています。
製品の利点
● カスタマイズ可能
当社は、レーザーレゾネータの高精度アプリケーションにおいて豊富な経験を持っており、お客様の特殊な使用目的に応じたカスタマイズが可能です。さまざまな使用シナリオにおけるお客様のアプリケーション上の課題に対して的確なソリューションを提供でき、カスタム要望にも迅速かつ効率的に対応できます。
● 高精度
米国国外の同レベル製品と同等の高い繰り返し定位精度を実現し、制御および仕上げの面で卓越性を追求しています。
● 高直線性
制御面では、独自のリニア補正技術およびパラレログラム補正技術を採用しており、マーキング範囲全体を通じて良好な直線性を維持しています。
● 高速
優れた動的性能を備えており、ジャンプ遅延および遷移遅延が小さく、高速でのジャンプやマーキング時でも高品質なマーキング効果を維持できます。
● 超低温度漂白
高度なセンサー技術と先進的な温度ドリフト自動補正技術を採用しており、ガルバノスキャナーの温度ドリフト問題をより効果的に克服しています。ゼロ点温度ドリフト、ゲイン温度ドリフト、長期温度ドリフトが最小限に抑えられており、長期間かつ大規模なマーキングにおいても大多数のアプリケーション要件を満たすことができます。
製品パラメータ | |
入力開口部 |
20mm |
スキャン角度 |
+0.35rad |
非線形性 |
<0.5mRad |
追跡時間 |
0.4ms |
小さなステップ、長い応答時間 |
-- |
繰り返し精度RMS |
<2urad |
ゲインドリフト |
<50ppm\/K |
ゼロドリフト |
<30urad/K |
8時間温度ドリフト |
<0.1mrad |
マーキング速度 |
<lm\/s |
位置決め速度 |
<4m/s |
電源 |
± 15V/5A |
入力信号プロトコル |
XY2-100 |
レーザー波長 |
1064nm/9300nm/10600nm |
動作温度 |
25± 10(°C) |
外形寸法 長さ×幅×高さ (mm) |
195x150x171 |
重量 (kg) |
5.6 |
|
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