È molto adatto per la pulizia laser continua ad alta velocità, alta intensità e in condizioni operative complesse. Viene principalmente integrato in scenari di automazione come piattaforme di movimento XYZ o bracci robotici, e può soddisfare i requisiti di lunghe ore di funzionamento continuo, elevata umidità nell'ambiente operativo ed elevata efficienza di pulizia.
Vantaggi del prodotto
● Alta potenza
Utilizza componenti ottici speciali personalizzati ad alta potenza, abbinati a una struttura di raffreddamento ad acqua efficiente e a una protezione termica multilivello, in grado di sopportare stabilmente fino a 12000W di potenza laser continua, affrontando con facilità vari tipi di sporco ostinato.
● elevata efficienza
Dotato di motore ad alto rendimento e ad alta velocità con raffreddamento ad acqua, driver ad alta velocità e specchio di campo ad elevata efficienza con raffreddamento ad acqua, garantisce una velocità di pulizia rapida e un'elevata efficienza, assicurando al contempo la stabilità del funzionamento del sistema.
● Alta stabilità
Adotta un design multilivello anti-interferenza e un algoritmo di controllo a ciclo chiuso multilivello per resistere efficacemente alle interferenze elettromagnetiche e alle vibrazioni meccaniche; l'involucro soddisfa lo standard IP6 di protezione dalla polvere, garantendo che il galvanometro possa funzionare stabilmente a lungo termine in ambienti difficili.
● Formato grande
Ampia area di pulizia, fino a 1000 mm x 1000 mm, per soddisfare le esigenze di pulizia efficiente di pezzi grandi.
Parametri del Prodotto | ||||
Nome |
ZB2DFHSC20GW1064 |
ZB2DFHSC25GW1064 |
ZB2DFHSC30GW1064 |
|
Lunghezza d'onda del laser |
1064nm |
1064nm |
1064nm |
|
Apertura di ingresso |
20mm |
30mm |
30mm |
|
Angolo di scansione |
±0,35 rad |
±0,35 rad |
±0,35 rad |
|
Nonlinearità |
<0.5mRad |
<0.5mRad |
<0.5mRad |
|
Tempo di errore di tracciamento |
0.4ms |
0,5 ms |
0,55 ms |
|
Velocità angolare |
<190 rad/s |
<155 rad/s |
<130 rad/s |
|
Potenza massima @1064 nm |
3000 W |
6000W |
8000W |
|
Intervallo di pulizia |
<1000 |
<1000 |
<1000 |
|
Ripetibilità |
<3 urad |
<3 urad |
<3 urad |
|
Deriva dell'asse a lungo termine |
<0,1 mrad |
<0,1 mrad |
<0,1 mrad |
|
Metodo di raffreddamento |
Raffreddamento ad acqua |
Raffreddamento ad acqua |
Raffreddamento ad acqua |
|
Alimentatore |
±24 V / 14,6 A |
±24 V / 14,6 A |
±24 V / 14,6 A |
|
Protocollo del segnale |
XY2-100 |
XY2-100 |
XY2-100 |
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Temperatura di funzionamento |
25 ± 10 (°C) |
25 ± 10 (°C) |
25 ± 10 (°C) |
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Temperatura di conservazione |
-10 a 60 °C |
-10 a 60 °C |
-10 a 60 °C |
|
Dimensioni(MM) |
110x79x280 |
200x197x158 |
200x197x158 |
|
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||||
6º piano, Blocco B, Edificio Tecnologico Wanhe, Numero 7 Via Huitong, Distretto di Guangming, Shenzhen, Provincia del Guangdong
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