Es muy adecuado para la limpieza con láser continuo bajo condiciones de alta velocidad, alta intensidad y trabajo complejo. Principalmente se instala en escenarios de automatización como plataformas de movimiento XYZ o brazos robóticos, y puede cumplir con los requisitos de largas jornadas de funcionamiento continuo, alta humedad en el entorno de trabajo y alta eficiencia de limpieza.
Ventajas del producto
● Alta potencia
Utiliza componentes ópticos de lentes de alta potencia especialmente personalizados, combinados con una estructura eficiente de refrigeración por agua y protección térmica multinivel, que puede soportar establemente hasta 12000W de potencia láser continua, y eliminar fácilmente diversas manchas persistentes.
● Alta eficiencia
Equipado con motor refrigerado por agua de alta velocidad y alta potencia, controlador de alta velocidad y espejo de campo refrigerado por agua de alta eficiencia, tiene una velocidad de limpieza rápida y alta eficiencia, garantizando al mismo tiempo la estabilidad del funcionamiento del sistema.
● Alta Estabilidad
Adopta un diseño de múltiples niveles contra interferencias y un algoritmo de control en bucle cerrado de múltiples niveles para resistir eficazmente la interferencia electromagnética y las vibraciones mecánicas; el cuerpo cumple con el estándar IP6 de protección contra polvo, lo que garantiza que el galvanómetro pueda operar establemente durante largos periodos en entornos adversos.
● Formato grande
Amplio rango de limpieza, hasta 1000 mm x 1000 mm, para satisfacer las necesidades de limpieza eficiente de piezas grandes.
Parámetros del Producto | ||||
Nombre |
ZB2DFHSC20GW1064 |
ZB2DFHSC25GW1064 |
ZB2DFHSC30GW1064 |
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Longitud de onda del láser |
1064 nm |
1064 nm |
1064 nm |
|
Apertura de entrada |
20 mm |
30mm |
30mm |
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Ángulo de exploración |
±0,35 rad |
±0,35 rad |
±0,35 rad |
|
No linealidad |
<0.5mRad |
<0.5mRad |
<0.5mRad |
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Tiempo de error de seguimiento |
0.4ms |
0,5 ms |
0,55 ms |
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Velocidad angular |
<190 rad/s |
<155 rad/s |
<130 rad/s |
|
Potencia máxima @1064 nm |
3 000 W |
6000W |
8000W |
|
Rango de limpieza |
<1000 |
<1000 |
<1000 |
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Repetibilidad |
<3 urad |
<3 urad |
<3 urad |
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Deriva a largo plazo del eje |
<0,1 mrad |
<0,1 mrad |
<0,1 mrad |
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Método de enfriamiento |
Refrigeración por agua |
Refrigeración por agua |
Refrigeración por agua |
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Fuente de alimentación |
±24 V / 14,6 A |
±24 V / 14,6 A |
±24 V / 14,6 A |
|
Protocolo de señal |
XY2-100 |
XY2-100 |
XY2-100 |
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Temperatura de funcionamiento |
25 ± 10 (°C) |
25 ± 10 (°C) |
25 ± 10 (°C) |
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Temperatura de almacenamiento |
-10 a 60 °C |
-10 a 60 °C |
-10 a 60 °C |
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Dimensión(MM) |
110 × 79 × 280 |
200x197x158 |
200x197x158 |
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||||
6º Piso, Bloque B, Edificio de Tecnología Wanhe, N.º 7 Carretera Huitong, Distrito de Guangming, Shenzhen, Provincia de Guangdong
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