ระบบทำความสะอาดด้วยกาลโวแบบฟลายอิงเป็นโซลูชันการทำความสะอาดด้วยเลเซอร์ขั้นสูง ซึ่งรวมการสแกนด้วยกาลโวที่มีความแม่นยำสูงเข้ากับแพลตฟอร์มเคลื่อนที่หลายแกน เพื่อให้ทำงานร่วมกันอย่างประสานกัน ระบบดังกล่าวสามารถแสดงศักยภาพของกาลโวในด้านความแม่นยำสูงและประสิทธิภาพสูง พร้อมทั้งใช้คุณสมบัติของการเดินทางไกลและความยืดหยุ่นสูงของแพลตฟอร์มเคลื่อนที่ ทำให้สามารถทำความสะอาดชิ้นงานขนาดใหญ่ได้อย่างมีประสิทธิภาพ ไร้รอยต่อ และมีคุณภาพสูง สามารถนำไปใช้ได้อย่างกว้างขวางในการทำความสะอาดและกำจัดสนิมด้วยเลเซอร์สำหรับชิ้นงานขนาดใหญ่ในอุตสาหกรรมต่างๆ เช่น พลังงานใหม่ อวกาศ การขนส่งทางราง การต่อเรือ อุตสาหกรรมแม่พิมพ์ และการอนุรักษ์โบราณวัตถุ
ข้อดีของสินค้า
● พลังงานสูง
ใช้ชิ้นส่วนเลนส์ออพติกกำลังสูงที่ออกแบบพิเศษ ผสานกับโครงสร้างระบายความร้อนด้วยน้ำอย่างมีประสิทธิภาพ และฟังก์ชันป้องกันอุณหภูมิหลายระดับ สามารถรองรับพลังงานเลเซอร์แบบพัลส์ได้สูงสุดถึง 1000 วัตต์
● รูปแบบขนาดใหญ่
การสแกนด้วยกาลโวทำงานร่วมกับแพลตฟอร์มเคลื่อนที่หลายแกน เพื่อควบคุมการทำงานแบบเชื่อมโยงกัน ทำให้สามารถทำความสะอาดได้ในรูปแบบไม่จำกัด
● ประสิทธิภาพสูง
ใช้เทคโนโลยีการสแกนด้วยกาลโวความเร็วสูง ร่วมกับเทคโนโลยีควบคุมการเชื่อมโยงของแพลตฟอร์มหลายแกน เพื่อให้การล้างทำความสะอาดอย่างต่อเนื่องมีประสิทธิภาพและไร้รอยต่อ ช่วยเพิ่มประสิทธิภาพในการทำความสะอาดอย่างมาก
● มีเสถียรภาพสูง
ใช้การออกแบบต้านทานการรบกวนหลายระดับและอัลกอริทึมควบคุมแบบวงจรปิดหลายชั้น สามารถต้านทานการรบกวนจากสนามแม่เหล็กไฟฟ้าและการสั่นสะเทือนเชิงกลได้อย่างมีประสิทธิภาพ; การเลือกวัสดุออปติกคุณภาพสูงและจับคู่กับกระบวนการเคลือบความแม่นยำสูง สามารถลดการสูญเสียของแสงและการบิดเบี้ยวจากความร้อนให้น้อยที่สุด และรับประกันคุณภาพลำแสงที่มั่นคงและเชื่อถือได้; ตัวเครื่องบรรลุมาตรฐานกันฝุ่น IP6 และรองรับระบบระบายความร้อนด้วยน้ำ ทำให้มั่นใจในการทำงานอย่างมั่นคงต่อเนื่องของแก๊ลโวโดยไม่ต้องกังวลกับสภาพแวดล้อมที่ท้าทาย
ข้อมูลจำเพาะของผลิตภัณฑ์ | |
จุดตกกระทบ |
7-10 มม. |
รูรับแสงเข้า |
30 มิลลิเมตร |
มุมการสแกน |
±0.35 เรเดียน |
ความเป็นเส้นตรง |
99.9% |
เวลาการติดตามแกน X/Y |
0.55ms |
| ความเร็วในการวางตำแหน่ง | 10000mm/s |
ความเร็วในการผสม |
4000mm/s |
พลังงานสูงสุด |
8000วัตต์ |
ความซ้ำซ้อนของแกน X/Y (RMS) |
<2urad |
ความซ้ำซ้อนของแกน Z (RMS) |
<1 ไมครอน |
การลอยตัวระยะยาวของแกน X/Y (หลังอุ่นเครื่อง 30 นาที) |
<0.1 มิลลิเรเดียน |
การลอยตัวระยะยาวของแกน Z (หลังอุ่นเครื่อง 30 นาที) |
<5 ไมครอน |
ช่วงการทำงานสูงสุดและความลึกของแกน Z |
ความลึกแกน Z: 348+15 (F=254@±30 มม.) ช่วงการวัด: 140 มม. × 140 มม. |
การให้พลังงาน |
±15 โวลต์/10 แอมแปร์ |
โปรโตคอลสัญญาณ |
XY2-100 |
อุณหภูมิในการทำงาน |
25±10(℃) |
อุณหภูมิการจัดเก็บ |
-10° ถึง 60° |
มิติ (มม.) |
167x182x276 |
|
|
ชั้น 6 อาคารบล็อก B อาคารเทคโนโลยีว่านเหอ หมายเลข 7 ถนนฮุ่ยตง เขตกวางหมิง เมืองเสิ่นเจิ้น มณฑลกวางตุ้ง
ลิขสิทธิ์ © 2026 เซินเจิ้น ซีบีทีเค เทคโนโลยี จำกัด นโยบายความเป็นส่วนตัว
EN
